目前，钕铁硼普遍采用Ni+Cu+Ni（即预镀镍+中间铜+表面光亮镍）镀层体系。
预镀镍的目的是为后续镀铜提供一层更加正向、致密的结构，保证后续镀铜的正常镀层，防止镀铜液的腐蚀，主要关系到镀层与基体的结合力和深镀能力。
预镀铜的结合力和深镀能力较好，但在NdFeB基体上使用比较困难，因为目前的预镀工艺属于复合镀液类型，电流效率较低，在多孔NdFeB基体上无法获得连续合格的铜镀层。
大部分钕铁硼都是镀镍的，瓦特镍镀层p过程。使用适量的半光亮镍添加剂。使用添加剂的目的并不是为了追求亮度，而是为了利用大的电流密度，以利于涂层的快速沉积。 Waterni也属于简单的盐涂覆溶液，需要直接涂覆在NdFeB基体上。许多要求（如镀液、滚筒和操作等）与NdFeB镀锌大致相同。
表面采用光亮镍涂层技术。光亮镍技术现在已经足够成熟。少数厂家采用氨基磺酸镀镍工艺。
一般情况下，NdFeB镀镍层的平均厚度不小于4~5µm，从而保证涂层在low区域被完全覆盖，以防止后续铜层腐蚀。表面镍层厚度8~10µm保证涂层的耐腐蚀性能。这样镍层总厚度可达12~15µ米。镍是一种铁磁金属。该涂层不仅不产生磁输出，而且屏蔽了NdFeB磁体的磁输出。涂层越厚，屏蔽效果越大。
采用目前的NdFeB“Ni+Cu+Ni”镀层体系，0.5g以下的小尺寸磁体的磁性能可降低10%~15%。如何减少电镀镍层的使用而不影响后续的电镀和镀层腐蚀是解决或改善该问题的关键，这也是钕铁硼镀镍层的一个难题。